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1、曝光量=照度×时间 2、照度由光圈决定，而时间由快门控制。光圈大小与快门长短决定了曝光量的多少。因此，曝光量由光圈和快门共同控制。 3、在理想情况下，曝光剂量是一个固定参数，整个硅片都受到均匀一致的光辐照。但在实际生产中，曝光机光源的能量可能会受到外界因素的影响而变化。 4、剂量均匀的紫外光对光刻胶的曝光是非常关键的，光学光刻中的曝光控制是通过使用剂量监控器在硅片表面测量紫外光强所获得的。曝光剂量在曝光场的不同位置测量并进行剂量百分比均匀性的计算 。 |
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1、曝光量=照度×时间 2、照度由光圈决定，而时间由快门控制。光圈大小与快门长短决定了曝光量的多少。因此，曝光量由光圈和快门共同控制。 3、在理想情况下，曝光剂量是一个固定参数，整个硅片都受到均匀一致的光辐照。但在实际生产中，曝光机光源的能量可能会受到外界因素的影响而变化。 4、剂量均匀的紫外光对光刻胶的曝光是非常关键的，光学光刻中的曝光控制是通过使用剂量监控器在硅片表面测量紫外光强所获得的。曝光剂量在曝光场的不同位置测量并进行剂量百分比均匀性的计算 。 |
